浙江奥首材料科技有限公司（简称“浙江奥首或企业”）成立于2014年7月23日，法定代表人侯军，注册资本6998.5594万元，注册地址为浙江省衢州市杜鹃路36号。公司致力于半导体材料和航空航天精密化学品的研发、生产与销售，经过近几年的发展，在半导体和航空航天等多个领域取得了突破，并开发出40余种具有自主知识产权的产品，在芯片去光阻液、研磨液、蚀刻液、划片液、清洗液等方面打破国外多项垄断。公司现有员工205人，配备了3名专职安全管理人员，为安全生产标准化三级企业。
浙江奥首在役生产装置产品有去光阻液系列（包括去光阻液、光刻胶剥离液、去膜剂、有机剥离液、水性剥离液、去胶液、边胶洗涤液）和蚀刻液系列（包括铜蚀刻液、铝钼蚀刻液、钛蚀刻液、ITO蚀刻液、硅蚀刻液、酸蚀刻液、金属蚀刻液）属于危险化学品，故浙江奥首材料科技有限公司属于危险化学品生产单位。浙江奥首在2022年通过了年产11.8万吨集成电路功能精细化学品项目（一期3.6万吨一阶段）安全设施竣工验收评价，于2022年11月4日取得了浙江省应急管理厅核发的安全生产许可证，有效期至2025年11月03日。
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